只因为在接触式光刻机中，涂有光刻胶的硅片与掩膜版直接接触，由于光刻胶和掩膜版之间紧密接触，因此可以得到比较高的分辨率。

　　接触式暴光的主要问题是容易损伤掩膜版和光刻胶。

　　当掩膜版与硅片接触和对准时，硅片上很小的灰尘就可能在掩膜版上造成损伤，这样在今后所有利用这块掩膜版进行暴光的硅片上都会出现这个缺陷。

　　因此采用接触式光刻很难得到没有缺陷的超大规模集成电路芯片，所以接触式光刻技术一般只适用于中小规模集成电路。

　　而接触式光刻机技术是六十年代的主流光刻机技术，到了七十年代的光刻机就进化成为了接近式光刻机。

　　接近式光刻机跟接触式光刻机类似，只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙，这个间隙一般在10～25微米之间。

　　此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤。

　　此外，接近式暴光的分辨率较低，一般在2～4微米之间，因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中。

　　接近式光刻机的主要优点是生产效率较高。

　　直到七十年代末期，才有了投影式光刻机，这种光刻机技术就是现如今的主流光刻机的初代机了。

　　许多年在六十年代的时候，就已经组织科研人员进行这些方面的研究了。

　　芯片是未来啊！

　　而光刻机则是造芯片的最重要的设备之一，甚至是在原时空历史上，成为被卡脖子的技术之一。

　　后世那个时代，被卡脖子的技术可太多太多了，光刻机在二零四年的时候，都还没被解决掉呢。

　　还有核心工业软件、航空发动机短舱、核心算法、医学影像设备元器件、环氧树脂、高端电容电阻等等。

　　这些都是后世那个时空被卡脖子的核心科技。

　　许多年当然知道这些，因此在收购劳斯莱斯集团的时候就已经开始布局了，在六六年搬来港岛之后，更是全面开始这些计划了。

　　按理说，当初的六七十年代，许多年从国外这边搞来了不少核潜艇、核反应堆、战斗机等先进设备和技术资料等。

　　但内地的发展，却还是没有加快多少。

　　毕竟众所周知的一件事，所以即便有许多年提供的这些设备和技术资料的支持，也没能够完成超越。

　　更别说内地本身的基础摆在那边，所以后来一直也很难在尖端领域追赶上欧美。

　　这个时空就不一样了，许多年提前布局，仅仅只是芯片制造这方面，就已经超越了欧美。

　　只不过，许多年按住了劳斯莱斯集团等几家公司的研发中心，没让他们那么快速地把技术拿出来。

　　比如深紫外光刻机技术，难度系数是非常高的，花了许多年不少钱和时间，才制造出来的。

　　其零部件就包括了光源、激光器、光束传输、投影镜片、操

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